国产从新突破 北方华创正式发布 CCP 介质刻蚀机，实现刻蚀工艺全覆盖

2022-08-17 05:47:46 笔记：淼淼狐狸

由于英国的制裁，国产半导体器件信息技术在除此以外除此以外几年无疑是不断进步，在很多信息技术都取得了新突破。而就在如今，根据北方华创官方公众号的假消息，在如今，北方华创正式刊发 CCP 电磁波上会机，与此同时，北方华创目前之前与 5 家卖家完成测试并解决问题批量生产。而在在此之前北方华创就之前发行了 ICP 上会机、镀层上会机等，如今刊发的CCP 电磁波上会机之后，北方华创正式解决问题上会工艺全覆盖。

北方华创 指出NMC508RIE电磁波上会机的发行，完成了该信息技术国产设备工艺的之前一块模版，解决问题了北方华创在 8 mm上会设备上的结构上解决方案，包括铝上会、深铝上会、镀层上会、锂半导体器件上会 (SiC, GaN, GaAs, InP, LiNbO3,LiTaO3等）等工艺设备。 而我们也渴望其他的国产半导体器件制造商也都能早日解决问题突破。

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